Lightmass的设置UE4

Lightmass

Lightmass的设置UE4

Lightmap为HDR,存有灯光方向信息。UE4使用Lightmass对光照进行预计算,以节省动态光照计算的成本。Stationary light build完灯光后还有Shadowmap,如果有Stationary天光会有sky occlusion map(Bent normal信息)。材质,物体,灯光,后期都可以控制Lightmass。

Lightmass的设置UE4

Lightmass的设置UE4

  1. Static Lighting Level
    Scale(静态光源等级缩放):**这可用于确定在照明中计算多少细节,较小的比例将大大增加构建时间和细节。增加细节。
    Lightmass的设置UE4
  2. **Indirect Lighting
    Quality(间接照明质量):**设置越高,会导致构建时间大量增加,但解算器穿帮(噪点、斑点)变少。减少噪点

Lightmass的设置UE4

在经验上,我们为了构建时间和最后质量做权衡,我们让他们有一个固定的关系

Lightmass的设置UE4

  1. Num Indirect/Sky Lighting Bounces:影响场景中中的亮度

Lightmass的设置UE4

  1. Indirect Lighting
    Smoothness(间接照明平滑度):**影响场景中中的亮度
    Lightmass的设置UE4
  2. Evironment color/Environment intensity

Lightmass的设置UE4

  1. ** Diffuse Boost(漫反射增强):**加 Diffuse Boost
    的值是增加场景中间接光照亮度的有效方式
  2. **Use Ambient
    Occlusion(使用环境遮挡):**使静态环境遮挡可以通过全局光照计算并内置到您的光照图中。
  3. **Direct Illumination Occlusion
    Fraction(直接照明遮挡率):**多少AO应用于直接照明
  4. **Indirect Illumination Occlusion
    Fraction(间接照明遮挡率):**多少AO应用于间接照
  5. **Occlusion Exponent(遮挡指数):**指数越高,对比度越高
  6. **Fully Occluded Samples
    Fraction(完全遮挡样本比例):**为了达到完全遮挡,必须遮挡的样本的比例。
  7. **Max Occlusion
    Distance(最大遮挡距离):**一个对象对另一个对象造成遮挡的最大距离。
  8. **Visualize Material
    Diffuse(可视化材质漫反射):**仅用导出到全局光照的材质漫反射覆盖法线直接和间接照明。这在验证导出的材质漫反射与实际漫反射匹配时非常有用。
  9. **Visualize Ambient
    Occlusion(可视化环境遮挡):**仅用AO项覆盖法线直接和间接照明。这在调整环境遮挡设置时很有用,因为它隔离了遮挡项。

  10. **Indirect Illumination Occlusion
    Fraction(间接照明遮挡率):**多少AO应用于间接照明
  11. **Compress Lightmaps(压缩):**是否压缩lightmap

光源设置灯光

Lightmass的设置UE4

  • Indirect Lighting Saturation(间接照明饱和度)
  • **Shadow
    Exponent(阴影指数)**控制阴影半影的衰减,或区域从完全光照到完全阴影的变化速度
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基本材质设置

Lightmass的设置UE4

  • 材质的细节(Details) 面板下的基本节点(Base
    Node)的材质(Material)中进行调整的全局光照(Lightmass)设置。
  • Cast Shadow as Masked,
  • Diffuse Boost
  • Export Resolution Scale

Lightmass portal

Lightmass portal提高lightmap的品质
Lightmass的设置UE4

UE4 Light Scenarios

Light Scenarios提供静态光变化的可能性

Lightmass的设置UE4

Lightmass的设置UE4

光照贴图需要注意以下问题:

  • 不要有重叠的部分
  • 不要超过0~1的UV空间
  • Flag-Mapping并不是最好的方式且经常导致光照贴图错误
  • 尽量占满UV空间
  • 如果模型很大而且复杂,最后分成数个物体,这样也能有助于裁剪等机制
  • 尽量减小光照贴图分辨率以减少贴图尺寸
  • 相互不接触的线之间要保持至少2像素的距离,以防止光照污染

展UV的时候注意Min Lightmap resolution,
定义了UV块之间的距离。这个值要小于等于lightmap
resolution,否则会出现lightmap像素无法匹配而溢出的问题。

本文来源于网络整理,由作者小云发布,其观点不代表番茄鱼视觉的立场,转载请联系原作者。
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